| 发明名称 | 一种氢致解偶合的异质外延用柔性衬底 | ||
| 摘要 | 一种氢致解偶合的异质外延用柔性衬底，其中包括：一机械支撑衬底，对于整个结构起机械支撑作用；一层去耦合的中间层，通过氢离子或氢气注入形成，对整个结构起解偶合作用；一顶层结构，厚度低于1000纳米，与机械支撑衬底共同完成对外延层的支撑，与中间层共同对整个结构实现解偶合的作用。 | ||
| 申请公布号 | CN1591772A | 申请公布日期 | 2005.03.09 |
| 申请号 | CN03155388.5 | 申请日期 | 2003.08.28 |
| 申请人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明人 | 张志成;杨少延;黎大兵;刘祥林;陈涌海;朱勤生;王占国 |
| 分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汤保平 |
| 主权项 | 1、一种氢致解偶合的异质外延用柔性衬底，其特征在于，其中包括：一机械支撑衬底，对于整个结构起机械支撑作用；一层去耦合的中间层，通过氢离子或氢气注入形成，对整个结构起解偶合作用；一顶层结构，厚度低于1000纳米，与机械支撑衬底共同完成对外延层的支撑，与中间层共同对整个结构实现解偶合的作用。 | ||
| 地址 | 100083北京市海淀区清华东路甲35号 | ||