发明名称 |
光控晶闸管器件、双向光控晶闸管器件和电子设备 |
摘要 |
为了提供一种具有高的击穿电压和很少变化光灵敏度的光控晶闸管,采用改善器件的灵敏度和击穿电压同时又保持器件小尺寸的方法,该器件包括一个硅基片(1);一个晶体管部分,它包括一个阳极区域(3,3’),一个栅极区域(4’,4)和一个阴极区域(6’,6)并且设置在硅基片的第一主表面上;一个光接受部分,用于接受来自外边的光;和一个电极(7,7’),用于建立在阳极区域和阴极区域之间的欧姆接触。光接受部分包括一层通过透明绝缘薄膜(10)重叠在所述硅基片上的掺氧多晶硅薄膜(11)并且设置成环绕着所述晶体管部分。电极(7,7’)设置在所述晶体管部分上并且具有双结构,该双结构包括一个中心部分(7a,7a’)和一个环绕着中心部分的外围部分(7b,7b’)并且中心部分和外围部分进行电连接。 |
申请公布号 |
CN1591912A |
申请公布日期 |
2005.03.09 |
申请号 |
CN200410076923.1 |
申请日期 |
2004.09.02 |
申请人 |
夏普株式会社 |
发明人 |
中岛聪司;冈田正刚 |
分类号 |
H01L31/10;H01L29/00;H01L27/00 |
主分类号 |
H01L31/10 |
代理机构 |
上海专利商标事务所 |
代理人 |
李家麟 |
主权项 |
1.一种光控晶闸管器件,它包括:一个硅基片(1);一个晶体管部分,它包括一个阳极区域(3,3’),一个栅极区域(4’,4)和一个阴极区域(6’,6)并且设置在硅基片的第一主表面上;一个光接受部分,用于接受来自外边的光;和,一个电极(7,7’),它电连接所述阳极区域和所述阴极区域中的一个区域;其特征在于:所述光接受部分包括一层设置在所述硅基片上的氧插座多晶硅薄膜(11)并且设置成环绕着所述晶体管部分,和,所述电极(7,7’)设置在所述晶体管部分上并且具有双结构,该双结构包括一个中心部分(7a,7a’)和一个环绕着中心部分的外围部分(7b,7b’)并且中心部分和外围部分进行电连接。 |
地址 |
日本大阪府 |