光刻用掩模护层

摘要

本发明提供一种具有实用性的光刻用掩模护层，其对于例如200至300纳米的远紫外线，尤其是200纳米以下的真空紫外线的短波长的光具有高透光率及耐旋光性。光刻用掩模护层是至少具有掩模护层膜、张贴该掩模护层膜的护层框，以及设于该掩模层框的另一端面具有粘接层的光刻用掩模护层，其特征为：所述掩模护层膜是由氟掺杂氧化硅及含氟树脂的复合构造制成。

主权项

1.一种光刻用掩模护层，至少具有掩模护层膜，张贴该掩模护层膜的掩模护层框，以及设于该掩模护层框另一端面的具有粘接层的光刻用掩模护层，其特征为：上述掩模护层膜是由氟掺杂氧化硅与含氟树脂的复合构造制成。