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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA TREATMENT
摘要
申请公布号 EP1152646(A4) 申请公布日期 2005.03.02
申请号 EP20000977871 申请日期 2000.11.22
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED;OHMI, TADAHIRO 发明人 OHMI, TADAHIRO;HIRAYAMA, MASAKI;KAIHARA, RYUU
分类号 H01L21/302;H01J37/32;H01L21/3065;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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