发明名称 正型光阻组成物及使用其形成图型之方法
摘要 本发明之正型光阻组成物系含有,因酸之作用使硷可溶性增大之树脂成分(A)与,因曝光使酸产生之酸产生剂成分(B)与,有机溶剂(C)(A)成分具有,(i)含酸解离性溶解抑制基(甲基)丙烯酸酯所衍生构成单元(a1),(ii)含有比构成单元(a1)所含前述酸解离性溶解抑制基解离更难之酸解离性溶解抑制基(甲基)丙烯酸酯所衍生构成单元(a2),及(iii)含有内酯官能基,由(甲基)丙烯酸酯所衍生构成单元(a3)者。093118853-p01.bmp
申请公布号 TW200508802 申请公布日期 2005.03.01
申请号 TW093118853 申请日期 2004.06.28
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 林亮太郎;竹下优;岩井武
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本