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发明名称
正型光阻组成物及使用其形成图型之方法
摘要
本发明之正型光阻组成物系含有,因酸之作用使硷可溶性增大之树脂成分(A)与,因曝光使酸产生之酸产生剂成分(B)与,有机溶剂(C)(A)成分具有,(i)含酸解离性溶解抑制基(甲基)丙烯酸酯所衍生构成单元(a1),(ii)含有比构成单元(a1)所含前述酸解离性溶解抑制基解离更难之酸解离性溶解抑制基(甲基)丙烯酸酯所衍生构成单元(a2),及(iii)含有内酯官能基,由(甲基)丙烯酸酯所衍生构成单元(a3)者。093118853-p01.bmp
申请公布号
TW200508802
申请公布日期
2005.03.01
申请号
TW093118853
申请日期
2004.06.28
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
林亮太郎;竹下优;岩井武
分类号
G03F7/039
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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