用于封闭回路控制之整合植入监测

摘要

本发明系关于一种用于即时原位植入及量测的方法及设备，其并入一回馈回路以在半导体晶圆之制造及测试期间调节基板之植入剂量。在处理期间，将该基板(如一矽晶圆)在一量测装置与一植入装置之间多次传送以确保在来自植入装置之射束击中基板处，掺杂浓度属于所需的参数范围内。