| 摘要 |
本发明揭示一种弯曲度减小且具有高定位精确度之光罩，该光罩具有：至少一基板孔，其形成在一矽基板之一部分上；一第一氧化矽膜，其形成在该矽基板之一表面上；一单晶矽层，其形成在该第一矽层与该基板孔隙上；至少一孔隙，其形成在位于该基板孔隙上之该单晶矽层之一部分上，并且供一曝光光束通过；一应力控制层，其形成在该矽基板之另一表面上，该应力控制层的内应力可将由于至少该第一氧化矽膜之压缩应力而导致该矽基板之弯曲予以平坦化。本发明还揭示一种光罩之制造方法、弯曲度减小之光罩基底(mask blank)以及光罩基底之制造方法。 |
