| 发明名称 | 贮格围堰及配线图案的形成方法，电光学装置及电子机器 | ||
| 摘要 | 本发明提供生产性好，并且能够形成形状良好的贮格围堰的贮格围堰形成方法。通过对设有含升华性材料的升华层(2)的基体材料(1)照射光，使升华性材料升华，在基体材料(1)上形成区划该基体材料(1)的所定区域的贮格围堰B。 | ||
| 申请公布号 | CN1582091A | 申请公布日期 | 2005.02.16 |
| 申请号 | CN200410055861.6 | 申请日期 | 2004.08.04 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 丰田直之 |
| 分类号 | H05K3/06;H05K1/09;H05B33/26 | 主分类号 | H05K3/06 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种贮格围堰的形成方法，其特征在于：通过对设有含升华性材料的升华层的基体材料照射光，使所述升华性材料升华，在所述基体材料上形成区划该基体材料的所定区域的贮格围堰。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||