| 发明名称 | 喷墨记录介质 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种喷墨记录介质体系，它包含含有两性离子聚合物或低聚物的至少一层涂层。该介质体系显示优异的耐光性以及良好的干燥时间和良好的成像性能。 | ||
| 申请公布号 | CN1582234A | 申请公布日期 | 2005.02.16 |
| 申请号 | CN02821825.6 | 申请日期 | 2002.10.24 |
| 申请人 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 发明人 | H·R·敦沃斯;A·J·奈斯比;J·苏哈多尔尼克;D·A·耶尔 |
| 分类号 | B41M5/00;C09D11/00 | 主分类号 | B41M5/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 赵苏林;段晓玲 |
| 主权项 | 1.一种喷墨记录介质体系，它包含支持体和在支持体上的一层或多层涂层，其中至少一层涂层包含两性离子聚合物或低聚物。 | ||
| 地址 | 瑞士巴塞尔 | ||