| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE TO FORM PHOTORESIST PATTERN CAPABLE OF FUNCTIONING AS MASK |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100472733(B1) |
申请公布日期 |
2005.02.11 |
| 申请号 |
KR19970027837 |
申请日期 |
1997.06.26 |
| 申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
BOK, CHEOL GYU;LIM, CHANG MUN;KO, CHA WON |
| 分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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