| 发明名称 | 感光卤化银乳剂、其制备方法以及感光卤化银光敏元件 | ||
| 摘要 | 一种卤化银乳剂，其中占所有卤化银晶粒的总投影面积至少50％的板状卤化银晶粒满足(a)-(g)的要求：(a)至少50摩尔％的氯化银含量，(b)在晶粒顶点上基本不存在外延晶格点，(c)至少25的板度，(d)有{100}主晶面，(e)0.03μm～0.20μm的平均厚度，(f)基于投影面积的平均等效圆直径为0.2μm～2.0μm，和(g)在晶粒顶点上的溴化物含量比晶粒中的平均溴化物含量高10～35摩尔％。可得到一种具有较高感光度和适合于快速冲洗的卤化银光敏元件。 | ||
| 申请公布号 | CN1188746C | 申请公布日期 | 2005.02.09 |
| 申请号 | CN98107723.4 | 申请日期 | 1998.02.21 |
| 申请人 | 富士胶片公司 | 发明人 | 山下清司;川井秀芳;奥津荣一 |
| 分类号 | G03C1/035;G03C1/015 | 主分类号 | G03C1/035 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 罗才希 |
| 主权项 | 1、一种卤化银乳剂，其中在乳剂中占所有卤化银晶粒总投影面积至少50％的板状卤化银晶粒具有一种同时满足下列要求(a)～(g)的结构：(a)至少50摩尔％的氯化银含量，(b)在晶粒顶点上基本不存在外延晶格点，(c)至少25的板度，(d)有{100}主晶面，(e)0.03～0.20μm的平均厚度，(f)基于投影面积的平均等效圆直径为0.2μm～2.0μm，和(g)晶粒顶点上的溴化物含量比晶粒中溴化物的平均含量高10摩尔％～35摩尔％。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||