发明名称 磁头及其制造方法和磁盘设备
摘要 其空气支撑表面适当经过粗糙化的磁头及其制造方法和磁盘设备,先是将碳化钛粒料分散入铝氧氧粉中制取TiC·Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>,再在TiC·Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>制成的基座上形成磁头磁芯部分,然后形成空气支撑表面。接着进行等离子体氧化处理,有选择地只在空气支撑表面中基座部分上形成许多高约5纳米的突出部分。突出部分由氧化钛组成,具体作法是有选择地氧化空气支撑表面上碳化钛粒料的外露部分。
申请公布号 CN1188841C 申请公布日期 2005.02.09
申请号 CN00101199.5 申请日期 2000.01.26
申请人 TDK株式会社 发明人 八木伊知郎
分类号 G11B5/60;G11B21/21 主分类号 G11B5/60
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 王忠忠
主权项 1.一种磁头,包括:一个基座;和一个磁头磁芯部分,在基座上形成,包括至少一个磁头写入元件或磁头读出元件;其中,所述基座的端面和磁头磁芯部分的端面形成应面向记录媒体的扁平表面,同时所述基座的端面比所述磁头磁芯部分的端面粗糙,以及,有预定高度的突出部分只形成在所述扁平表面中所述基座的端面上、并突出该端面,所述突出部分用氧化钛制成。
地址 日本东京都