发明名称 铜-镍磷多层膜的制备方法
摘要 本发明公开了一种铜-镍磷多层膜的一种制备方法。本发明以硫酸铜、硫酸镍、亚磷酸,柠檬酸钠以及十二烷基硫酸钠为原料配制成沉积多层膜的溶液,采用电化学沉积的方法,制备软硬相交替的铜-镍磷多层膜。该方法的特点是:设备和工艺过程简单,沉积温度较低,避免了物理方法沉积时高温下材料内部引入的热应力和层间热扩散。实验结果表明:本发明所涉及的铜-镍磷多层膜有高的显微硬度和良好的摩擦学性能。
申请公布号 CN1187478C 申请公布日期 2005.02.02
申请号 CN02154653.3 申请日期 2002.11.30
申请人 中国科学院兰州化学物理研究所 发明人 刘维民;石雷
分类号 C25D5/12 主分类号 C25D5/12
代理机构 兰州中科华西专利代理有限公司 代理人 方晓佳
主权项 1、一种铜-镍磷多层膜的制备方法,采用电化学沉积的方法,对电极为纯镍板或铂电极,工作电极为金属片或导电玻璃,参比电极为饱和甘汞电极,其特征在于:将硫酸铜,硫酸镍,亚磷酸,柠檬酸三钠以及十二烷基硫酸钠溶于蒸馏水中,调pH值为2.0~2.5,配制成电沉积多层膜的溶液,保持沉积温度40℃~45℃,相对于SCE的电势在-50mV~-0.4V之间沉积铜,相对于SCE的电势≤-0.8V范围内沉积镍磷。
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