用于投影曝光的装置和方法

摘要

本发明提供了一种将掩模图形投影到工件上的投影曝光装置。该装置有基座、光源、光学系统、掩模支承机构、工件支承机构以及对准机构。光学系统使光线形成为载有掩模的图像信息的投影光线，并引导该投影光线通过预定光路，从而使投影光线能够投影到工件的曝光表面上。光学系统包括投影光学系统和照明光学系统。该投影光学系统垂直于基座布置。掩模和工件支承机构分别相对于基座垂直支承掩模和工件。这样，工件的曝光表面能够与在光路中的成像平面重合。

主权项

1.一种投影曝光装置，其将掩模图形投影到工件上，包括：基座；光源，用于产生带有预定波长的紫外光的光线；光学系统，该光学系统使光线形成为载有掩模的图像信息的投影光线，并引导该投影光线通过预定光路，从而使投影光线能够投影到工件的曝光表面上；掩模支承机构，用于相对于基座垂直支承掩模；工件支承机构，用于相对于基座垂直支承工件，这样，工件的曝光表面能够与在光路中的成像平面重合；以及对准机构，用于调节在工件的曝光表面和掩模之间的对准；其中，该光学系统包括：投影光学系统，该投影光学系统布置在掩模支承机构和工件支承机构之间，其中，该投影光学系统适于垂直于基座布置；以及照明光学系统，该照明光学系统布置在光源和掩模支承机构之间。