| 主权项 |
1.一种镜面结构,系含有:一第一镜面;一垫片,系具有一第一接合面与一第二接合面,其中该第一接合面系与该第一镜面相接;以及一第二镜面,其系与该第二接合面相接而与该第一镜面近乎垂直配置。2.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该第一镜面系为一第一晶格面。3.如申请专利范围第2项所述之结构,其中该第一晶格面系为矽晶圆之晶格面。4.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该第二镜面系为一第二晶格面。5.如申请专利范围第4项所述之结构,其中该第二晶格面系为矽晶圆之晶格面。6.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该垫片的之厚度系由该第一镜面之延伸线与该第二镜面之延伸线间的夹角所决定。7.一种角隅镜面结构;系包含:一第一镜面;一旋转梁,系位于该第一镜面之一侧;一垫片,系与该第一镜面相连;一第二镜面,系与该垫片相接而以与该第一镜面以近乎垂直的方式进行配置。8.如申请专利范围第7项所述之结构,其中该旋转梁系用以供作为该第一镜面之一转动轴。9.如申请专利范围第7项所述之结构,其中该垫片之厚度系藉该第一镜面与该第二镜面之夹角而定。10.如申请专利范围第7项所述之结构,其中该第一镜面系为一第一晶格面。11.如申请专利范围第7项所述之结构,其中该第二镜面系为一第二晶格面。12.如申请专利范围第7项所述之结构,其中该第一镜面更与一上电极形成一组合。13.如申请专利范围第12项所述之结构,其中该角隅镜面结构更可包含一下电极,系用以与该上电极搭配而控制该第一镜面的位置。14.如申请专利范围第13项所述之结构,其中该上电极与该旋转梁相接触。15.一种角隅镜面阵列,其包含:一第一镜面阵列;一第一电极阵列,系与该第一镜面阵列相连;一垫片组,其中每一垫片系具有一第一接合面与一第二接合面,该垫片组之该等第一接合面乃分别与该第一镜面阵列相接;以及一第二镜面阵列,系分别接于该垫片组之该等第二接合面而与该第一镜面阵列近乎垂直配置。16.如申请专利范围第15项所述之角隅镜面阵列,其中该第二镜面阵列为一垂直方向镜面阵列。17.如申请专利范围第15项所述之角隅镜面阵列,其中该第一镜面阵列为一水平方向镜面阵列。18.如申请专利范围第17项所述之角隅镜面阵列,其中该第一镜面阵列更包含一第二电极阵列。19.如申请专利范围第18项所述之角隅镜面阵列,其中该第一镜面阵列系包含复数个第一镜面。20.如申请专利范围第19项所述之角隅镜面阵列,其中每一该复数个第一镜面各具有一旋转梁。21.如申请专利范围第20项所述之角隅镜面阵列,其中当该第一电极阵列与该第二电极阵列间存有一作用力时,各个该第一镜面可因应该作用力而以该旋转梁为轴而转动。22.如申请专利范围第19项所述之角隅镜面阵列,其中该第二镜面阵列系包含复数个第二镜面。23.如申请专利范围第22项所述之角隅镜面阵列,其中该第一镜面与该第二镜面皆为晶格面。24.如申请专利范围第23项所述之角隅镜面阵列,其中该晶格面为矽晶格面。25.如申请专利范围第22项所述之角隅镜面阵列,其中该垫片组系具有复数个垫片。26.如申请专利范围第25项所述之角隅镜面阵列,其中该复数个第一镜面与该复数个该第二镜面系藉该复数个垫片而相接。27.如申请专利范围第25项所述之角隅镜面阵列,其中该复数个垫片的厚度系由该第一镜面阵列与该第二镜面阵列之夹角所决定。28.一种可调变雷射系统,其包含:一光源,其系发射出一光束;一光栅,设于该光源前方,以便反射该光束而生成一第一反射光束;一角隅镜面阵列,设于该光栅前方以承接该第一反射光束并产生一第二反射光束;以及一接收器,系用以接收一第三反射光束,其中,该光栅系将该第二反射光束反射成该第三反射光束。29.如申请专利范围第28项所述之雷射系统,其中该角隅镜面阵列上具有复数个角隅镜面。30.如申请专利范围第29项所述之雷射系统,其中每一个该复数个角隅镜面系包含一第一镜面、一第二镜面、一垫片与一旋转梁。31.如申请专利范围第30项所述之雷射系统,其中该垫片系用以分别承接该第一镜面与该第二镜面,以便该第一镜面与该第二镜面近乎垂直配置。32.如申请专利范围第30项所述之雷射系统,其中该第一镜面可因应一作用力而以该旋转梁为轴作旋转,进而改变该第二反射光束的路径与波长范围。33.如申请专利范围第28项所述之雷射系统,其更包含一发散装置。34.如申请专利范围第33项所述之雷射系统,其中该发散装置系为一凹透镜。35.如申请专利范围第33项所述之雷射系统,其中该发散装置系设于该光栅与该角隅镜面阵列之间。36.如申请专利范围第33项所述之雷射系统,其中该发散装置系用以将该第一反射光束发散成复数个发散光束。37.如申请专利范围第28项所述之雷射系统,其中该光源为一雷射。38.如申请专利范围第37项所述之雷射系统,其中该雷射为一二极体雷射。39.如申请专利范围第28项所述之雷射系统,其中该光栅系将该光束反射成具有不同光波长的该第一反射光束。40.如申请专利范围第28项所述之雷射系统,其中该接收器系为一第二透镜。41.如申请专利范围第40项所述之雷射系统,其中该第二透镜系为一渐变折射率透镜。42.如申请专利范围第40项所述之雷射系统,其中该第二透镜系将该第三反射光折射成一折射光束。43.如申请专利范围第42项所述之雷射系统,其中该雷射系统更包含一光纤,系用以传递该折射光束。图式简单说明:第一图(A)-(C):为习知技艺中可达成光回馈之光学元件示意图;第二图(A)-(B):为本案较佳实施例之角隅镜面组合示意图;第三图(A)-(B):为本案较佳实施例之角隅镜面致动示意图;第四图:为本案较佳实施例之角隅镜面阵列雷射系统示意图;第五图:为本案较佳实施例之另一角隅镜面阵列雷射系统示意图。 |
