发明名称 | 高温反应烧结炉 | ||
摘要 | 本实用新型涉及一种高温反应烧结炉,尤其涉及一种半导体、冶金及其它行业的热处理真空工艺处理中应用的高温反应烧结炉。其结构由炉体、反应室、送料装置与旋转装置和废气处理装置组成;本实用新型所述的高温反应烧结炉,在原有炉体结构中增加了反应室,反应室位于炉体内部,与炉腔分开;可以节约工艺气体,不会在炉壁上产生结晶,影响高温烧结炉的性能。在送料装置上增加了旋转装置,使工件在处理过程中持续旋转,让工件受热均匀,与工艺气体接触均匀,提高产品质量。又增加了废气处理装置,对产生的废气进行处理,减少对环境制成的污染。 | ||
申请公布号 | CN2674295Y | 申请公布日期 | 2005.01.26 |
申请号 | CN200320103509.6 | 申请日期 | 2003.11.21 |
申请人 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 发明人 | 谢晶 |
分类号 | F23B7/00 | 主分类号 | F23B7/00 |
代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郑立明 |
主权项 | 1、一种高温反应烧结炉,其特征在于由炉体、反应室与送料装置组成;反应室位于炉体内部,送料装置位于反应室在炉体上的开口处外端。 | ||
地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |