| 主权项 |
1.一种平面化一影像感测器底材之方法,包括:沉积一第一聚合物层于该影像感测器底材之上;图案化该第一聚合物层以形成柱状之该第一聚合物层;以及沉积一第二聚合物层于该柱状之该第一聚合物层之上。2.如申请专利范围第1项之平面化一影像感测器底材之方法,更包括后蚀刻该第二聚合物层。3.如申请专利范围第1项之平面化一影像感测器底材之方法,更包括形成一彩色滤波器层于该第二聚合物层之上。4.如申请专利范围第1项之平面化一影像感测器底材之方法,其中该柱状之该第一聚合物层具有大约2微米之间距。5.如申请专利范围第1项之平面化一影像感测器底材之方法,其中该第一聚合物层与该第二聚合物层是聚缩水甘油丙烯酸甲酯(PGMA)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。6.一种形成彩色滤波器于一影像感测器底材上之方法,包括:沉积一第一聚合物层于该影像感测器底材之上;图案化该第一聚合物层以形成柱状之该第一聚合物层;沉积一第二聚合物层于该柱状之该第一聚合物层之上;以及形成一彩色滤波器层于该第二聚合物层之上。7.如申请专利范围第6项之形成彩色滤波器于一影像感测器底材上之方法,更包括后蚀刻该第二聚合物层。8.如申请专利范围第6项之形成彩色滤波器于一影像感测器底材上之方法,其中该柱状之该第一聚合物层具有大约2微米之间距。9.如申请专利范围第6项之形成彩色滤波器于一影像感测器底材上之方法,其中该第一聚合物层与该第二聚合物层是聚缩水甘油丙烯酸甲酯(PGMA)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。图式简单说明:图一所示为习知技术之一影像感测器之一部份之截面图。图二至图五为本发明之一实施例之方法之截面图。 |
