一种用于偏振分束/合束的纳米级光栅及其制作方法

摘要

本发明提供一种用于偏振分束/合束的纳米级光栅及其制作方法，其纳米级光栅的金属栅条位于沟槽底部，并在光栅结构的上层沉积一层与衬底同质的保护膜。纳米级光栅的制作方法包括以下步骤：(1)首先用同步辐射X射线光刻方法制作基本纳米光栅；(2)在纳光光栅表面均匀镀制具有高反射性的金属膜；(3)用离子束倾斜刻蚀方法去掉光栅脊背上的金属膜；(4)用沉积方法将与衬底同质的材料覆盖在光栅表面。先采用倾斜角度的方法将材料沉积在光栅脊背上搭桥，再将沉积材料覆盖在光栅表面。使金属光栅具有较理想的坚固表面和可靠的保护覆盖层。

主权项

1、一种用于偏振分束/合束的纳米级光栅，它由纳米光栅、金属栅条、保护膜依次组成，其特征在于纳米级光栅的金属栅条位于沟槽底部，并在光栅结构的上层沉积一层与衬底同质的保护膜。