一种利用CH<SUB>3</SUB>SiC1<SUB>3</SUB>合成(CH<SUB>3</SUB>)<SUB>2</SUB>SiC1<SUB>2</SUB>的方法

摘要

一种利用CH₃SiCl₂合成(CH₃)₂SiCl₂的方法，以纯度＞99％一甲基三氯硅烷及纯度＞98％氯甲烷为原料，进行气相烷基化反应，采用铝催化剂，纯度≥97％，球型，平均粒径为1mm，其反应物组成CH₃SiCl₃∶CH₃Cl＝1∶1～1∶0.4(mol)，控制反应温度200～300℃，反应时间4～5小时，CH₃SiCl₃转化率可达到50％以上，(CH₃)₂SiCl₂及(CH₃)₃SiCl单程总收率可达到50％以上，本发明成功地解决目前国内有机硅生产装置CH₃SiCl₃大量过剩问题，使CH₃SiCl₃得到更加充分合理的利用。此反应比较容易控制，对反应器要求也不苛刻，安全性较好。

主权项

1.一种利用CH3SiCl3合成(CH3)2SiCl2的方法，采用气相烷基化法，其特征是：采用搅拌床反应器，在0～0.5Mpa表压下，使CH3SiCl3与CH3Cl在铝催化下进行气相烷基化反应，生成(CH3)2SiCl2及(CH3)3SiCl，铝作催化剂，CH3SiCl3与CH3Cl的摩尔比为1∶1～1∶0.4，反应温度为200～300℃，反应时间为4～5小时，得到(CH3)2SiCl2及(CH3)3SiCl产物。