首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Plasma processing apparatus
摘要
申请公布号 EP1134774(A3) 申请公布日期 2005.01.19
申请号 EP20010104803 申请日期 2001.02.27
申请人 HITACHI, LTD. 发明人 KAZUMI, HIDEYUKI;SASAKI, ICHIRO;MAEDA, KENJI;TETSUKA, TSUTOMU;KAWAHARA, HIRONOBU
分类号 H05H1/46;B01J19/08;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com