改善光阻平坦度的方法与沟槽电容器的制造方法

摘要

本发明揭示一种改善光阻平整度的方法。利用一倾斜角度之曝光程序实行于填满于疏密程度不均匀之复数沟槽内的整个光阻层，使曝光能量到达各沟槽内之光阻层一致的深度，在经过显影后，便可使得各沟槽内的光阻层与基底表面皆保持一致的距离。本发明更将该方法应用于电容器的制作。首先，提供一基底，其中上述基底中形成有复数个沟槽。接着，形成一光阻层于上述基底表面，使光阻层填入沟槽内。接着，实施一曝光程序，使一光源以一倾斜角度曝照于光阻层。最后，实施一显影程序，以去除被曝照之光阻层部分，使各沟槽中之光阻层的上表面低于基底的上表面一既定距离。