金刚石碳锥沉积方法

摘要

金刚石碳锥沉积方法属于化学气相沉积微晶技术领域。其特征在于，采用平面型电感偶合射频等离子体化学气相沉积法，以氩气等惰性气体为载气，使用氢气和甲烷或己炔等碳氢反应气体，射频功率500～1500W；反应室气压5～500Pa；反应气体中氢碳原子比50～400；偏压功率0～300W；沉积时间10～240min。锥阵列的尺寸，密度和分布可通过样品表面预处理和沉积工艺参数来控制。这种微晶或纳米晶金刚石碳锥阵列有很好的应用前景，是一种非常理想的电子发射材料，在微机电系统(MEMS)中，如半导体金刚石探针，微型电夹，外科微型工具等，也将充分展示其巨大的优越性。

主权项

1.金刚石碳锥沉积方法，其特征在于，样品置于CCP电极(7)上，抽真空至2×10-3～5×10-3Pa，通入氩气，开启ICP射频电源(1)，在1KW射频功率和0.133～1.33Pa压力下，等离子体清洗样品3～5min，关ICP射频电源(1)；通入甲烷和氢气，调节Ar/CH4/H2混合比，其流量分别为50～200sccm、0.5～10sccm、40～50sccm，将反应室压力控在5～500Pa；同时开启ICP射频电源(1)和CCP射频电源(9)开始碳锥合成，射频功率分别为500～1500W和0～300W，反应室压力5～500Pa，合成时间10～240min。