| 主权项 |
1.一种曝光装置,使记录媒体朝指定之扫描方向进行相对性的移动,同时,藉由基于影像资讯所调变之光束而将在该记录媒体中之指定的描绘区域进行曝光,以在该描绘区域上形成对应于影像资讯之曝光装置中,其特征在于具有:读取部,在对向于朝向前述扫描方向进行相对性移动之记录媒体的读取位置上,系由该记录媒体读取对应于描绘区域所设置之对齐标记;资讯处理部,为依据来自前述读取部之读取资讯,判断在记录媒体中之描绘区域的位置,同时,因应该描绘区域之位置而对于影像资讯进行位置转换处理;曝光部,系沿着前述扫描方向而被配置在前述读取部之下游侧,在对向于朝前述扫描方向以相对性进行移动的记录媒体之曝光位置上,藉由基于来自前述资讯处理部之影像资讯而调变之光束以将该记录媒体之描绘区域进行曝光,将影像形成在该描绘区域上;将由沿着前述扫描方向之前述读取部至前述曝光部为止的距离设定成对齐标记之间距以上的长度,该对齐标记系分别对应的设置在以该曝光部所曝光之描绘区域之前端以及后端、或是使该描绘区域沿着前述扫描方向而区隔之小区域的前端以及后端。2.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中为具有:曝光台,系载置记录媒体;座台驱动装置,当藉由前述读取部达成对齐标记之读取时以及藉由前述曝光部达成对于描绘区域之曝光时,使前述曝光台沿着前述扫描方向移动,将载置于前述曝光台上之记录媒体,朝向前述扫描方向而以前述曝光部所达成之曝光速度来移动。3.如申请专利范围第1或2项之曝光装置,其中为具有曝光位置调整装置,系将由沿着前述扫描方向之前述读取部至前述曝光部为止的距离,变化成因应对齐标记的间距,该种对齐标记系为已对应以前述资讯处理部所判断位置之描绘区域。4.一种曝光装置,将在记录媒体中之指定的描绘区域藉由依据影像资讯所调变之光束来进行曝光,在前述描绘区域中,形成对应于影像资讯之影像,其特征在于具有:曝光台,系载置记录媒体;读取部,系朝指定之扫描方向移动,同时在对向于前述曝光台上之记录媒体的读取位置上,由该记录媒体读取对应于描绘区域所设置之对齐标记;资讯处理部,为依据来自前述读取部之读取资讯,判断在记录媒体中之描绘区域的位置,同时,因应该描绘区域之位置而对于影像资讯进行位置转换处理;曝光部,系沿着前述扫描方向而被配置在前述读取部之下游侧,在对向于朝前述扫描方向、且在对应于前述曝光台上之记录媒体的曝光位置上,将该记录媒体之描绘区域藉由基于来自前述资讯处理部之影像资讯而调变之光束进行曝光、且将影像形成在该描绘区域上;曝光部驱动装置,在藉由前述资讯处理部而对于已判断位置之描绘区域进行曝光时,为将前述曝光部朝向前述扫描方向而对该描绘区域以影像形成速度进行移动;读取部驱动装置,在藉由前述曝光部而对描绘区域开始曝光之前,以将对齐标记之前述读取位置通过前述读取部状的使前述读取部沿着前述扫描方向进行移动,该对齐标记系分别对应的设置在以该曝光部所曝光之描绘区域之前端以及后端、或是使该描绘区域沿着前述扫描方向而区隔之外区域的前端以及后端。图式简单说明:第1图所示系为有关本发明之第一实施例之雷射曝光装置之外观的立体图。第2图所示系为有关本发明之第一实施例之雷射曝光装置之外观的侧面图。第3图所示系为有关本发明之第一实施例之雷射曝光装置之外观的侧面图。第4图所示系为有关本发明之第二实施例之雷射曝光装置之外观的立体图。第5图所示系为有关本发明之第二实施例之雷射曝光装置之外观的侧面图。第6图所示系为有关本发明之第二实施例之雷射曝光装置之外观的侧面图。第7图所示系为有关本发明之一实施例之曝光装置之扫描器之构造的立体图。第8A图所示系为形成在感光材料上之已曝光之区域的平面图,第8B图所示系为以各个曝光头所达成之曝光区域之配列的示意图。第9图所示系为有关本发明之实施例之雷射曝光装置之曝光头之概略构造的立体图。第10A图所示系为沿着在第4图所示之曝光头之构造的光轴之副扫描方向的断面图,第10B图系为第10A图之侧面图。第11图所示系为数位微镜装置(DMD)之构造的局部放大图。第12A图以及第12B图系为用以说明DMD之动作的说明图。第13A图以及第13B图系为在未倾斜配置DMD之情况与倾斜配置之情况下,表示比较曝光光束之配置以及扫描线的平面图。第14A图所示系为光纤阵列光源之构造的立体图,第14B图所示系为第14A图之局部放大图,第14C图以及第14D图系为表示在雷射射出部中之发光点之配列的平面图。第15图所示系为多模光纤之构造的示意图。第16图所示系为合波雷射光源之构造的平面图。第17图所示系为雷射模组之构造的平面图。第18图所示系为在第12图所揭示之雷射模组之构造的侧面图。第19图所示系为在第12图中所示之雷射模组之构造的局部侧面图。第20图所示系为在有关本发明之第一实施例之雷射曝光装置中之控制系统的概略构造之方块图。第21A图以及第21B图所示系为DMD之使用区域之例的示意图。第22A图系为当DMD之使用区域为适当之情况下的侧面图,第22B图系为沿着第22A图之光轴的则扫描方向之断面图。第23图所示系为在有关本发明之第二实施例之雷射曝光装置中控制系统的概略构造方块图。 |
