| 主权项 |
1.一种无电镀镍组成物,包括0.01至1莫耳/升之镍、0 .01至1莫耳/升之还原剂、0.01至2莫耳/升之错合剂 和0.5至4毫克/升之促进剂,其中,该促进剂系以可促 进该组成物沉积速率之足够量存在的中离子化合 物。 2.如申请专利范围第1项之组成物,其中,该中离子 化合物包括硫。 3.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中,该中离 子化合物系选自具有结构(I)之三唑化合物所成 组群, 与具有结构(II)之四唑化合物, 所成组群,其中, R1为具有1至28个碳原子之经取代或未经取代之烷 基、烯基、硫烷氧基、或烷氧羰基;具有3至28个碳 原子之经取代或未经取代之环烷基;具有6至33个碳 原子之经取代或未经取代之芳基;具有1至28个碳原 子与一个或多个如N、O及/或S之杂原子之经取代或 未经取代杂环;结合至经取代或未经取代之芳环的 烷基、环烷基、烯基、烷氧烷基、芳基或苯氧基; 或结合至具有1至28个碳原子与一个或多个如N、O 及/或S之杂原子之经取代或未经取代杂环的烷基 、环烷基、烯基、烷氧烷基、芳基或苯氧基; R2为具有0至25个碳原子之经取代或未经取代之胺 基;具有1至28个碳原子之经取代或未经取代之烷基 、烯基或烷氧基;具有3至28个碳原子之经取代或未 经取代之环烷基;具有2至25个碳原子之经取代或未 经取代之醯氧基;具有6至33个碳原子之经取代或未 经取代之芳基;具有1至28个碳原子与一个或多个如 N、O及/或S之杂原子之经取代或未经取代杂环;结 合至经取代或未经取代之芳环的烷基、环烷基、 烯基、烷氧烷基、芳基或苯氧基;或结合至具有1 至25个碳原子与一个或多个如N、O及/或S之杂原子 之经取代或未经取代杂环的烷基、环烷基、烯基 、烷氧烷基、芳基或苯氧基; R3为具有0至25个碳原子之经取代或未经取代之胺 基;具有1至28个碳原子之经取代或未经取代之烷基 、烷氧基或烯基;具有3至28个碳原子之经取代或未 经取代之环烷基;具有2至25个碳原子之经取代或未 经取代之醯氧基;具有6至33个碳原子之经取代或未 经取代之芳基;具有1至28个碳原子与一个或多个如 N、O及/或S之杂原子之经取代或未经取代杂环;结 合至经取代或未经取代之芳环的烷基、环烷基、 烯基、烷氧烷基、芳基或苯氧基;或结合至具有1 至25个碳原子与一个或多个如N、O及/或S之杂原子 之经取代或未经取代杂环的烷基、环烷基、烷氧 烷基、芳基或苯氧基;该R1、R2和R3彼此间可进一步 结合形成5、6或7员环;及 X为共价键结至该环且可带负电之基团。 4.如申请专利范围第3项之组成物,其中,X为硫或氧 原子。 5.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中,该促进 剂为雪梨酮。 6.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中,该中离 子化合物系以0.05至10mg/L的浓度存在。 7.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中,该镍系 选自氯化镍、硫酸镍、甲酸镍及乙酸镍所成组群 之可溶性镍盐衍生而来。 8.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中,该还原 剂系选自次磷酸、次磷酸盐、硼氢化物、二甲胺 硼烷、三甲胺硼烷、、硫代硫酸盐及抗坏血酸 盐所成组群者。 9.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中,该错合 剂系选自氨及含有一种或多种官能基之有机错合 形成剂所成组群者,该些官能基系选自一级胺、二 级胺、三级胺、亚胺、羧基与羟基所成组群者。 10.一种在基材上沉积无电镀镍层之方法,包括于PH3 至11及温度为40至95℃下使该基材与申请专利范围 第1至9项中任一项之组成物接触。 图式简单说明: 第1图系于90℃、pH4.8时比较相同浓度之硫醇三唑 (triazolium thiolate)(A)、硫(B)、以及硫氰酸钠(C) 之镀覆速率(微米/10分钟)。 第2图系于60℃、pH4.8时比较相同浓度之硫醇三唑 (A)以及硫氰酸钠(C)之镀覆速率(微米/10分钟)。 |
