发明名称 薄膜形成装置用构成元件及其洗净方法
摘要 本发明为一种薄膜形成装置用构成元件及该构成元件之洗净方法,其具有可以比先前更短之时间剥离形成于构成元件之附着膜d,并减轻洗净液带来之伤害之构造。利用喷镀,蒸镀,溅射,积层等方法在母材金属1之表面形成比上述构成元件之母材金属1在电化学上更卑贱之金属膜层2,或利用上述喷镀等方法在金属膜层2之表面形成比上述母材金属1在电化学上更高贵之第2金属膜层3,金属膜层2即可在与母材金属1或第2金属膜层3之间形成局部电池(local cell),而母材金属1本身不致受到洗净液S之伤害,且可以在极端时间内剥离层合于母材金属1之附着膜d。
申请公布号 TW200500479 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW093104120 申请日期 2004.02.19
申请人 优贝克科技股份有限公司 发明人 平田招佑;矶田伸二;门丰;虫明克彦
分类号 C23C14/00 主分类号 C23C14/00
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本