矽化镍层的形成方法、镍合金自动对准矽化金属电晶体结构以及其制造方法

摘要

一种矽化镍层以及结合矽化镍层的半导体元件，可以增加接下来在450℃以上的温度下进行的制程之稳定度。特别的是，矽化镍层是由一种镍合金构成，其中合金金属的一小部分比如为钽，会表现出降低凝聚作用以及减缓NiSi与NiSi2之间的相转换，以抑制片电阻的增加，并改善对于细小图案的可利用性。在形成上，矽化镍层包括一层下方层，主要由镍与矽组成，还有一层较薄的上方层，主要是由合金金属构成。