| 发明名称 |
Layer-forming method using plasma state reactive gas |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US6835425(B2) |
申请公布日期 |
2004.12.28 |
| 申请号 |
US20020181827 |
申请日期 |
2002.07.22 |
| 申请人 |
KONISHIROKU PHOTO IND |
发明人 |
FUKUDA KAZUHIRO;KONDO YOSHIKAZU;MURAKAMI TAKASHI;IWAMARU SHUNICHI;MURAMATSU YUMI;TSUJI TOSHIO |
| 分类号 |
C23C4/18;C23C16/509;C23C16/54;G02B1/10;(IPC1-7):H05H1/24 |
主分类号 |
C23C4/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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