发明名称 |
MAGNETRON SPUTTER CATHODE COMPRISING A COOLING PLATE |
摘要 |
<p>Um eine relative breite Magnetron-Sputter-Kathode realisieren zu können, wird vorgeschlagen, dass auf der Vakuumseite eines Trägers (2) das Sputter-Target (4) mit einer Rückenplatte (3) angeordnet wird, die zum Träger (2) einen Spalt (14) einhält. Die Rückenplatte (3) ist als Kühlplatte ausgebildet. In ihr befinden sich Kühlmittelkanäle (15), die über einen Zulauf (16) durch den Träger (2) mit Kühlflüssigkeit versorgt werden, die über einen Rücklauf (17) durch den Träger (2) wieder abfliessen kann. Auf der Atmosphärenseite befindet sich eine Magnetanordnung (5).</p> |
申请公布号 |
WO2004112079(A1) |
申请公布日期 |
2004.12.23 |
申请号 |
WO2004DE00208 |
申请日期 |
2004.02.07 |
申请人 |
APPLIED FILMS GMBH AND CO. KG;KREMPEL-HESSE, JOERG;JISCHKE, ANDREAS;SCHUESSLER, UWE;WOLF, HANS |
发明人 |
KREMPEL-HESSE, JOERG;JISCHKE, ANDREAS;SCHUESSLER, UWE;WOLF, HANS |
分类号 |
C23C14/34;C23C14/35;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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