发明名称 MAGNETRON SPUTTER CATHODE COMPRISING A COOLING PLATE
摘要 <p>Um eine relative breite Magnetron-Sputter-Kathode realisieren zu können, wird vorgeschlagen, dass auf der Vakuumseite eines Trägers (2) das Sputter-Target (4) mit einer Rückenplatte (3) angeordnet wird, die zum Träger (2) einen Spalt (14) einhält. Die Rückenplatte (3) ist als Kühlplatte ausgebildet. In ihr befinden sich Kühlmittelkanäle (15), die über einen Zulauf (16) durch den Träger (2) mit Kühlflüssigkeit versorgt werden, die über einen Rücklauf (17) durch den Träger (2) wieder abfliessen kann. Auf der Atmosphärenseite befindet sich eine Magnetanordnung (5).</p>
申请公布号 WO2004112079(A1) 申请公布日期 2004.12.23
申请号 WO2004DE00208 申请日期 2004.02.07
申请人 APPLIED FILMS GMBH AND CO. KG;KREMPEL-HESSE, JOERG;JISCHKE, ANDREAS;SCHUESSLER, UWE;WOLF, HANS 发明人 KREMPEL-HESSE, JOERG;JISCHKE, ANDREAS;SCHUESSLER, UWE;WOLF, HANS
分类号 C23C14/34;C23C14/35;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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