发明名称 多对靶薄膜溅射仪
摘要 本发明公开了一种多对靶薄膜溅射仪,在溅射真空室内设置有至少三对靶及靶头,所述各对靶之间设置有非磁性金属隔离板,所述溅射真空室的上盖或下盖与所述各靶头连接处设置有波纹管,所述溅射真空室内设置有基板架,所述基板架上设置有基板,所述基板架的外围设置有与基板架同心的带有侧孔的套筒,所述溅射真空室的上端盖上设置有真空室的开启机构。所述基板架与第一电机连接,所述套筒与第二电机连接,所述第一电机、第二电机分别与微控制器连接。所述每对靶头之间设置有间距调节装置。所述基板架为多面体。使用本发明的装置,能在线制备各种材质的单层膜或多层膜,成膜速度快、均匀性好,厚度可控,而且制膜简单方便。
申请公布号 CN1556244A 申请公布日期 2004.12.22
申请号 CN200310122021.2 申请日期 2003.12.31
申请人 天津大学 发明人 姜恩永;白海力;吴萍;李志青;何柏岩
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 天津市北洋有限责任专利代理事务所 代理人 曹玉平
主权项 1.一种多对靶薄膜溅射仪,在溅射真空室内设置有至少三对靶及靶头,所述各对靶之间设置有非磁性金属隔离板,其特征是,所述溅射真空室的上盖或下盖与所述各靶头连接处设置有波纹管,所述溅射真空室内设置有基板架,所述基板架上设置有基板,所述基板架的外围设置有与基板架同心的带有侧孔的套筒,所述溅射真空室的上端盖上设置有真空室的开启机构。
地址 300072天津市南开区卫津路92号