含有聚集染料的辐射敏感材料和照相材料

摘要

本发明公开一种含有式(I)的聚集染料的辐射敏感材料和照相材料，其中X、R¹-R⁴、L¹、L²、L³、M⁺、n如说明书中所定义，其中聚集染料具有小于55nm的吸收半谱带宽度。∴

主权项

1.一种辐射敏感材料，其特征在于它含有下式(I)的聚集染料：其中X是氧或硫；R¹-R⁴各自独立地代表未取代或取代的烷基、未取代或取代的芳基或未取代或取代的杂芳基，其中所述烷基为含有1-6个碳原子的烷基，芳基包括苯基、萘基、蒽基和苯乙烯基，杂芳基包括吡啶基、噻吩基、呋喃基和吡咯基，而酰基包括乙氧基甲酰基、酰氨基、苯甲酰基、羧基和乙酰基；L¹、L²和L³各自独立的代表取代或未取代的次甲基；M⁺代表质子或无机或有机阳离子；n是0、1、2或3，其中聚集染料具有小于55nm的吸收半谱带宽度。