| 主权项 |
1.一种式I之化合物,(I),其中R1,R2与R3为个别独立之氢;未经取代或经OH、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫基、苯基硫基、F、Cl、Br、I、CN、(C1-C8烷基)O-(CO)-、(C1-C4烷基)O-(CO)-或/及二(C1-C4烷基)胺基取代之C1-C20烷基;或R1,R2与R3为个别独立之C3-C6烯基;未经取代或经OH、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫基、苯基硫基、F、Cl、Br、I、CN、(C1-C8烷基)O(CO)-、(C1-C4烷基)-(CO)O-或/及二(C1-C4烷基)胺基取代之苯基;或R1与R2一起为C2-C9烷撑、邻-苯二甲基、2-丁烯撑、C3-C9恶烷撑或C3-C9烷撑;R4,R5,R6与R7为个别独立之二级C3-C20烷基、三级C4-C20烷基、或苯基,其中这些取代基为未经取代或经OH、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫基、苯基硫基、F、Cl、Br、I、CN、(C1-C8烷基)O(CO)-、(C1-C4烷基)-(CO)O-或/及二(C1-C4烷基)胺基取代;或R4与R5及/或R6与R7一起为C2-C9烷撑、邻-苯二甲基、2-丁烯撑、C3-C9恶烷撑或C3-C9烷撑,或R4与R6及/或R5与R7一起为具支链之C2-C9烷撑、邻-苯二甲基、2-丁烯撑、C3-C9恶烷撑或C3-C9烷撑。2.根据申请专利范围第1项之式I化合物,其中R1,R2与R3为个别独立之C1-C20烷基或苯基;且R4,R5,R6与R7为个别独立之二级C3-C20烷基。3.一种制备根据申请专利范围第1项之式I化合物之方法,其中式II之一金属化有机矽化合物与式III之一卤素硼反应,其中R1,R2,R3,R4,R5,R6与R7如申请专利范围第1项之式I化合物中所定义;X为氯或溴;且M为Na,K或Li。4.一种光可聚合组成物,其包括(A)至少一乙烯不饱和光可聚合化合物以及(B)至少一如申请专利范围第1项之式I化合物。5.根据申请专利范围第4项之光可聚合组成物,其除了成分(B)外另外包括至少另一光起始剂(C),及/或其它共起始剂(D)及/或其它添加剂(E)。6.一种具有乙烯不饱和双键之化合物之光聚合方法,其中以波长范围从200至600nm之光照射如申请专利范围第4项之组成物。7.根据申请专利范围第6项之方法,其系用以制造具颜色或不具颜色涂料与漆料、粉末涂层、印刷油墨、筛网印刷油墨、凸板-或橡胶版印刷用油墨、印刷板、黏着剂、牙科组成物、波导、光学开关、增色系统、色彩过滤器或色彩镶嵌阻剂、复合组成物、玻璃纤维缆线涂层、筛网印刷模板、阻剂材料、电镀阻剂、蚀刻阻剂、软焊阻剂、用以包覆电与电子零件、用于制造磁性记录材料、用于藉由立体印刷制造三维物体、以及用作影像记录材料、全息摄影记录物用影像记录材料、去色材料、影像记录材料用之去色材料、用于使用微胶囊之影像记录材料之组成物。8.一种于至少一表面上以申请专利范围第4项之组成物涂布之被涂布基板。9.一种用以照相生成浮雕影像之方法,其中以申请专利范围第4项之组成物涂布之被涂布基板经类影像曝光,接着以溶剂除去未曝光部分。 |
