供厚膜成像之光阻组合物

摘要

本发明系关于一种特别可用于厚膜成像之光敏光阻组合物，其包含一成膜硷溶性树脂、一光敏化合物及一表面活性剂，该表面活性剂之含量以光阻剂之总重量计介于约2,000ppm至约14,000ppm之间。该光阻膜之厚度较佳大于20微米。本发明进一步提供一种用于涂覆本发明之光敏组合物并使之成像之方法。