半导体显影设备之晶圆清洗装置及其操作方法

摘要

一种半导体显影设备具有一用于传递晶圆之传送手臂及一承载晶圆之承载座，一显影液喷头用于将显影液喷洒于晶圆光阻层的表面；一可上下垂直移动之圆柱挡板环设于承载座周围、晶圆之下方，且显影设备涂布显影液时，圆柱挡板上缘与该晶圆相距一第一距离；复数个喷洒头设置于承载座及圆柱挡板之间，当一昇降机构使圆柱挡板下降时，喷洒头才导引一清洁液朝晶圆之边缘部份喷射，以清洁晶圆之边缘。