| 摘要 |
本发明系关于含有：含矽之重复单元与，具有下述式(1)所示取代基之重复单元之高分子化合物。093102026-p01.bmp(A^1系选自喃二基，四氢喃二基或氧降烷二基之二价基。R^1，R^2为各自独立之碳原子数1～10之直链状，支链状或环状之一价烃基。或，R^1，R^2为互相键结，与该等键结之碳原子一起可形成脂肪族烃环。R^3为可含氢原子或杂原子之碳原子数1～10之直链状，支链状或环状之一价烃基。)本发明之效果系光阻材料，可感应高能量线，在300nm以下之波长中感度，解像性，氧等离子蚀刻耐性优异。093102026-p01.bmp |
