发明名称 |
光刻法和空间色散最小化的紫外透射氟化物晶体 |
摘要 |
本发明包括紫外线平版印刷方法。该平版印刷方法包括提供一个波长短于200nm的辐射源。该方法包括提供具有一定空间色散的氟化物立方晶体的器件。氟化物立方晶体含有许多光学极化率不同的碱土金属离子(10,20,30),以产生总体为各向同性的极化率,从而在波长短于200nm时氟化物晶体的色散降至最低。制造混合晶体的基本原理是基于这样一种事实,即介质张量的波长依赖关系式预期基于这二种情况量子力学表达式而大致随与波长无关的值成比例。也就是说,易极化及折射率更大的离子也可预期对空间色散的贡献更大。 |
申请公布号 |
CN1555500A |
申请公布日期 |
2004.12.15 |
申请号 |
CN02817990.0 |
申请日期 |
2002.06.21 |
申请人 |
康宁股份有限公司 |
发明人 |
D·C·艾伦;N·F·保雷利;C·M·史密斯;R·W·斯派罗 |
分类号 |
G02B5/20;G02B11/00;G03F1/00 |
主分类号 |
G02B5/20 |
代理机构 |
上海专利商标事务所 |
代理人 |
周承泽 |
主权项 |
1.一种UV平版印刷方法,所述方法包括:提供用于产生短于200nm波长光的光源,提供许多混合氟化物立方晶体光学器元件,所述氟化物立方晶体包含光学极化率不同的碱土金属离子的组合,以产生一种总体各向同性极化率,使波长短于200nm时氟化物晶体的空间色散最小,使波长短于200nm的光透过所述氟化物立方晶体光学元件,利用所述光形成平版印刷图案,还原所述平版印刷图案,用所述氟化物立方晶体光学元件将其透射到对UV辐射敏感的平版印刷介质上,形成平版印刷图案。 |
地址 |
美国纽约州 |