发明名称 一种显影抑制释放化合物及其在感光材料制作中的应用
摘要 本发明涉及一种DIR化合物及其在感光材料中的应用,该DIR化合物如下述通式(I)所示。该化合物用于彩色照相材料的感光涂层,可以明显降低颗粒度,提高解像力、清晰度和色饱和度,制作出的彩色画面影像清晰,色彩鲜艳。∴式中R<SUB>1</SUB>表示氢原子、卤原子、C<SUB>1</SUB>-C<SUB>2</SUB>烷基、C<SUB>1</SUB>-C<SUB>2</SUB>烷氧基;R<SUB>2</SUB>表示卤原子、C<SUB>1</SUB>-C<SUB>2</SUB>烷氧基;R<SUB>3</SUB>表示C<SUB>8</SUB>-C<SUB>16</SUB>烷基;X表示苯并三氮唑或巯基四氮唑类显影抑制基团。
申请公布号 CN1180310C 申请公布日期 2004.12.15
申请号 CN01120512.1 申请日期 2001.07.18
申请人 中国乐凯胶片集团公司 发明人 初虹
分类号 G03C7/305 主分类号 G03C7/305
代理机构 北京金富邦专利事务所有限责任公司 代理人 蔡志勇
主权项 1、一种显影抑制释放化合物,其结构如下述通式(I)表示:<img file="C011205120002C1.GIF" wi="1042" he="289" />式中R<sub>1</sub>表示氢原子、氯原子、氟原子、C<sub>1</sub>-C<sub>2</sub>烷基、C<sub>1</sub>-C<sub>2</sub>烷氧基;    R<sub>2</sub>表示氯原子、氟原子、C<sub>1</sub>-C<sub>2</sub>烷氧基;    R<sub>3</sub>表示C<sub>8</sub>-C<sub>16</sub>烷基;    X表示苯并三氮唑或巯基四氮唑类显影抑制基团。
地址 071054河北省保定市建设南路1号