发明名称 褥疮主因测定装置
摘要 一种褥疮主因测定装置,在具有可挠性之第1及第2薄片11,12间,设置应变产生薄片22,其一端23固定在第1薄片11,另一端固定在第2薄片12。当第1及第2薄片11,12间产生位移时,该位移即施加于应变产生薄片22。将应变计21固定在该应变产生薄片22,根据应变产生薄片22之位移检测应变,以测定剪力。进一步在前述第1薄片11上黏着第3薄片15之周缘,形成密封空间。测定该形成之密封空间之压力,据以测定对身体之压迫力。
申请公布号 TWI224964 申请公布日期 2004.12.11
申请号 TW092106286 申请日期 2003.03.21
申请人 墨尔顿股份有限公司 发明人 三村真季;冈崎 英和
分类号 A61G7/057 主分类号 A61G7/057
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种褥疮主因测定装置,系用以测定患者之背部或腰部等所产生之褥疮的主因,其特征在于,具备:感测器部,其具有:介于患者与寝具之间、压力会根据患者体压而变化之气密的体压测定空间,与该体压测定空间连通的空气软管,配置有应变计以检测患者皮肤水平方向所施加之剪力之剪力测定空间,及连接在应变计、从该剪力测定空间输出的信号线;以及操作显示部,其具备:透过该空气软管与体压测定空间气密连通、以检测从体压测定空间传达之压力的压力感测器,及处理来自该应变计及压力感测器之信号并显示体压资讯、剪力资讯的显示体。2.如申请专利范围第1项之褥疮主因测定装置,其中,系将具有可挠性之2片薄片之周缘部加以黏着并将气体密封在内部以形成气密之测定空间,在该测定空间以气密方式安装空气软管以作为体压测定空间,另一方面,在形成该测定空间之2片薄片之内侧,将分别安装有应变计之应变产生薄片之两端部分别予以固定,以形成剪力测定空间,据以使用共通之一个测定空间来实现体压测定空间与剪力测定空间。3.如申请专利范围第1项之褥疮主因测定装置,其中,该剪力测定空间,系适当黏接具有可挠性之2片薄片之周缘部,在该2片薄片之内侧分别固定应变产生薄片之两端部,并在该应变产生薄片固定应变计;该体压测定空间,系在2片薄片之1片黏着第3薄片之周缘部并于内部封入气体以形成气密空间,在该气密空间连通空气软管。4.如申请专利范围第2或3项之褥疮主因测定装置,其中,系将两面贴有应变计之应变产生薄片的两端部,分别以和欲测定剪力之方向一致的方式固定在2片薄片之内侧。5.如申请专利范围第4项之褥疮主因测定装置,其中,在该2片薄片之内侧,设置复数个应变产生薄片。6.如申请专利范围第1~3项中任一项之褥疮主因测定装置,其中,在该体压测定空间,内装用以维持该体压测定空间厚度之海绵状间隔件。7.如申请专利范围第1项之褥疮主因测定装置,其中,具备有运算电路,其系根据由压力感测器所测得之体压资讯与从应变计所测得之剪力资讯,来计算体压及剪力之合力,并以显示体来显示该合力。图式简单说明:第1图,系显示本发明之褥疮主因测定装置之一实施形态之体压及剪力测定感测部之部份剖面立体图。第2图,系对应第1图之II-II线之截面图。第3图,系用来说明应变产生薄片与应变计作用之主要部份截面图。第4图,系显示感测器部及操作部之俯视图。第5图,系显示感测器部及操作部之电路构成之方块图。第6图,系用来说明显示感测器部之其他构成例之应变产生薄片与应变计作用之主要部份截面图。第7图,系为了进一步说明显示其他构成例之应变产生薄片与应变计之作用,除去第1、第3薄片状态之主要部份截面图。第8图,系显示本发明之褥疮主因测定装置之其他实施形态之体压及剪力测定感测部之部份剖面立体图。第9图,系用来说明产生剪力之侧视图。
地址 日本