发明名称 基片检验装置
摘要 基片检验装置,将矩形的保持座从水平状态升起至预定角度,并将宏观照明光照射在被检验基片的表面上进行宏观观察,其具有:沿被检验基片侧缘的正交的二个方向被一体设置在保持座上的位置坐标检测机构,该位置坐标检测机构备有:沿着保持座)的两侧缘设置的一对第1导轨;沿着保持座)的一侧面设置的1个第2导轨;设置在第2导轨的延长线上的激光光源;在横跨被检验基片的状态下沿着第1导轨移动的投射板;沿着第2导轨移动,用于将从激光光源射出的激光反射向投射板的反射体;使投射板移动以使其与被检测基片上的缺陷部一致,并使反射体移动以使激光和缺陷部一致,基于此时的反射体和投射板的位置,检测出缺陷部的位置坐标的检测部。
申请公布号 CN1179206C 申请公布日期 2004.12.08
申请号 CN01112050.9 申请日期 2001.03.26
申请人 奥林巴斯光学工业株式会社 发明人 藤崎畅夫;永见理
分类号 G01N21/84;G01N21/88;G02F1/13 主分类号 G01N21/84
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 黄剑锋
主权项 1.基片检验装置,其是将保持被检验基片(3)的矩形的保持座(2)从水平状态升起至预定角度,将从宏观照明光源(10)射出的宏观照明光(101)照射在所述被检验基片(3)的表面上并进行宏观观察,其特征在于具有:位置座标检测机构,沿着被检验基片(3)侧缘的正交的二个方向被一体设置在所述保持座(2)上、并用于检测上述被检验基片(3)上的缺陷部的位置座标的,上述位置座标检测机构备有:一对第1导轨(7031、7032),沿着所述保持座的两侧缘被设置;一个第2导轨(704),沿着所述保持座(2)的一侧面被设置;激光光源(21),被设置在所述第2导轨(704)的延长线上;投射板(743),被设置为在横跨所述被检验基片(3)的状态下可沿着所述第1导轨(7031、7032)移动;反射体(707),被设置为可沿着上述第2导轨(704)移动,用于将从所述激光光源(21)射出的激光(750)反射向所述投射板(743)检测部,使所述投射板(743)移动以使其与所述被检测基片(3)上的缺陷部(A)一致的同时,使所述反射体(707)移动以使所述激光(750)和所述缺陷部(A)一致,基于此时的所述反射体(707)和所述投射板(743)的位置,检测出所述缺陷部(A)的位置座标。
地址 日本东京都