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发明名称
内连线错误的改善图案
摘要
一种内连线错误的改善图案。此内连线错误的改善图案系应用于金属层/介电层/金属层之结构,在其中一金属层的其他区域加上补助图案,利用这些补助物所造成的热应力梯度来集中金属层中的空缺,以防止用以连接两金属层之中介插塞底部产生孔洞。
申请公布号
TW200426983
申请公布日期
2004.12.01
申请号
TW092127239
申请日期
2003.10.01
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
姚志翔;万文恺;黄泰钧;夏劲秋
分类号
H01L21/762
主分类号
H01L21/762
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
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