发明名称 内连线错误的改善图案
摘要 一种内连线错误的改善图案。此内连线错误的改善图案系应用于金属层/介电层/金属层之结构,在其中一金属层的其他区域加上补助图案,利用这些补助物所造成的热应力梯度来集中金属层中的空缺,以防止用以连接两金属层之中介插塞底部产生孔洞。
申请公布号 TW200426983 申请公布日期 2004.12.01
申请号 TW092127239 申请日期 2003.10.01
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 姚志翔;万文恺;黄泰钧;夏劲秋
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路八号