| 摘要 |
本发明为提供一种具有高蚀刻耐性与高解析性之正型光阻组成物，及使用该正型光阻组成物之光阻图型之形成方法。该正型光阻组成物，为一种含具有酸解离性溶解抑制基，且可因酸之作用增大硷可溶性之树脂成分(A)与，可经曝光产生酸之酸产生剂成分(B)之正型光阻组成物，其中该树脂成份(A)为具有(a1)下述式(I)所示结构单位之聚合物，且(a1)单位之羟基一部份中，其氢原子以被下述式(II)所示酸解离性溶解抑制基取代之方式保护。093111275-p01.bmp(式中，R为氢原子或甲基，R^1为碳数1至5之烷基，R^2为碳数1至5之烷基或氢原子，X为碳数10至16之脂肪族多环式基或碳数10至16之芳香族多环式烃基)。 |
