发明名称 | 光干涉式显示单元之制造方法 | ||
摘要 | 一种光干涉式显示单元的制造方法,适用于一透明基材之上。在基材上依序形成第一电极及牺牲层。在于第一电极及牺牲层内形成至少二开口并定义出光干涉式显示单元之位置,接着形成一耐热绝缘无机支撑物于开口之内,再形成第二电极于该牺牲层及该支撑柱之上,最后,以一远端电浆蚀刻制程移除牺牲层。 | ||
申请公布号 | TW200426108 | 申请公布日期 | 2004.12.01 |
申请号 | TW092114188 | 申请日期 | 2003.05.26 |
申请人 | 元太科技工业股份有限公司 | 发明人 | 林文坚;蔡熊光 |
分类号 | B81B7/00 | 主分类号 | B81B7/00 |
代理机构 | 代理人 | 蔡坤财 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路三号 |