发明名称 光罩支架之装置
摘要 本发明为有关一种光罩支架之装置,为一种半导体显影制程的光罩传输盒内供光罩置放之支架装置,特别系是指一种得防止光罩与凸顶体摩擦刮损,形成尘粒之光罩支架装置,其系是利用耐磨性、高硬度之聚醚醚酮(PEE K)或者聚亚胺树脂(VESPEL)材质制成凸顶体,而该凸顶体一侧设有朝向倾斜且顶部为长形微弧面之顶持部,其远离顶持部的另一侧则设有可供与支架结合之座体,俾供光罩置于凸顶体上,则利用凸顶体之顶持部以长形微弧面顶持光罩,而减少摩擦之接触面积,且该凸顶体之耐磨损、高硬度特性,可防止与光罩底部面设之铬金属接触摩擦,以避免刮损凸顶体而产生尘粒者。
申请公布号 TWI224719 申请公布日期 2004.12.01
申请号 TW092114456 申请日期 2003.05.28
申请人 家登精密工业股份有限公司 发明人 邱铭乾
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 江明志 台北市大安区忠孝东路四段一四八号二楼之四
主权项 1.一种光罩支架之装置,系指可防止光罩与凸顶体摩擦刮损形成尘粒之光罩支架装置,其主要特征在于:该凸顶体系利用具有耐磨性、高硬度之聚醚醚酮(PEEK)材质制成;而于该凸顶体一侧为设有朝向中央倾斜且顶部呈长形微弧面之顶持部,且凸顶体系可嵌入支架之穿孔内,俾当以光罩置放于凸顶体上时,即利用凸顶体顶部之长形微弧面顶持光罩,以减少摩擦面积并防止与光罩底部面设之铬金属接触,而避免刮损凸顶体产生尘粒者。2.如申请专利范围第1项所述一种光罩支架之装置,其中该凸顶体亦可利用具有耐磨性、高硬度之聚亚胺树脂(VESPEL)材质制成。3.如申请专利范围第1项所述一种光罩支架之装置,其中该凸顶体延伸之座体形状,可因应支架穿孔之构形而改变。4.如申请专利范围第1项所述一种光罩支架之装置,其中该凸顶体于远离顶持部的另一侧延设有可供与支架的穿孔结合之座体。图式简单说明:第一图 系为习知光罩支架置放光罩之立体示意图。第二图 系为习知光罩支架置放光罩之前视示意图。第三图 系为习知光罩支架之光罩平衡模式测试图表。第四图 系为本发明之光罩支架立体分解图。第五图 系为本发明之光罩支架前视图。第六图 系为本发明较佳实施例之光罩支架立体分解图。第七图 系为本发明之光罩平衡模式测试图表。
地址 台北县树林市八德街四二八号