| 发明名称 |
Combined high speed optical profilometer and ellipsometer |
| 摘要 |
A system and method for measuring defects, film thickness, contamination, particles and height of a thin film disk or a silicon wafer.
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| 申请公布号 |
US2004233419(A1) |
申请公布日期 |
2004.11.25 |
| 申请号 |
US20040873892 |
申请日期 |
2004.06.21 |
| 申请人 |
MEEKS STEVEN W.;KUDINAR RUSMIN |
发明人 |
MEEKS STEVEN W.;KUDINAR RUSMIN |
| 分类号 |
G01B11/06;G01B11/30;G01N21/95;G01N21/956;G11B5/84;H01L21/66;(IPC1-7):G01N21/00 |
主分类号 |
G01B11/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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