发明名称 面状光源结构
摘要 本案系关于一种一面状光源结构,其结构包含一面状导光板,其具有一侧边;一导光棒,设置于该面状导光板之侧边;以及一第一发光体及一第二发光体,分别设置于该导光棒之两端,用以提供入射光源;其中该导光棒更包含一导光凹面,设置于该第一发光体及该第二发光体之间,用以将该第一发光体及该第二发光体之入射光源,导向该导光板。
申请公布号 TWI224182 申请公布日期 2004.11.21
申请号 TW092100065 申请日期 2003.01.02
申请人 统宝光电股份有限公司 发明人 林精皇;麦哲魁
分类号 F21V8/00;G02B6/00 主分类号 F21V8/00
代理机构 代理人 蔡清福 台北市中正区忠孝东路一段一七六号九楼
主权项 1.一面状光源结构,其包含: 一面状导光板,其具有一侧边; 一导光棒,设置于该面状导光板之侧边;以及 一第一发光体及一第二发光体,分别设置于该导光 棒之两端,用以提供入射光源; 其中该导光棒更包含一导光凹面,设置于该第一发 光体及该第二发光体之间,用以将该第一发光体及 该第二发光体之入射光源,导向该导光板。 2.如申请专利范围第1项之面状光源结构,其中该侧 边系为该面状导光板上之一厚侧边。 3.如申请专利范围第1项之面状光源结构,其中该导 光板更包含一底部斜面,其上具有复数个扩散点, 用以使光源由该导光板正面射出。 4.如申请专利范围第3项之面状光源结构,其中该扩 散点为一网点结构。 5.如申请专利范围第3项之面状光源结构,其中该扩 散点为一V型切痕。 6.如申请专利范围第3项之面状光源结构,其中该扩 散点为一网点与一V型切痕合体。 7.如申请专利范围第1项之面状光源结构,其中该第 一发光体及该第二发光体分别为一LED发光体。 8.如申请专利范围第1项之面状光源结构,其中该导 光凹面系为一斜面。 9.如申请专利范围第1项之面状光源结构,其中该导 光凹面系为一曲面。 10.如申请专利范围第1项之面状光源结构,其中该 导光凹面系为一斜面与一曲面之合体。 11.如申请专利范围第1项之面状光源结构,其中该 导光凹面更包含一反射层,用以反射光线。 12.如申请专利范围第1项之面状光源结构,其中该 第一发光体与该第二发光体系为同型之发光体。 13.如申请专利范围第12项之面状光源结构,其中该 导光凹面相对于该第一发光体及该第二发光体系 为一对称性凹面,用以因应该第一发光体及该第二 发光体之入射光源,将其导向所需之路径。 14.如申请专利范围第1项之面状光源结构,其中该 第一发光体与该第二发光体系为不同型之发光体 。 15.如申请专利范围第14项之面状光源结构,其中该 导光凹面相对于该第一发光体及该第二发光体系 为一不对称性凹面,用以分别因应该第一发光体及 该第二发光体之入射光源,将其导向所需之路径。 16.如申请专利范围第1项之面状光源结构更包含一 折射层,设置于该导光板与该导光棒之间,用以更 改光线之传导方向。 17.一面状光源结构,其包含: 一面状导光板,其具有一侧边;以及 一第一发光体及一第二发光体,分别设置于该侧边 之两端,用以提供入射光源; 其中该导光板之该侧边更包含一导光凹面,设置于 该第一发光体及该第二发光体之间,用以将该第一 发光体及该第二发光体之入射光源,导向该导光板 。 18.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 侧边系为该面状导光板上之一厚侧边。 19.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 导光板更包含一底部斜面,其上具有复数个扩散点 ,用以使光源由该导光板正面射出。 20.如申请专利范围第19项之面状光源结构,其中该 扩散点为一网点结构。 21.如申请专利范围第19项之面状光源结构,其中该 扩散点为一V型切痕。 22.如申请专利范围第19项之面状光源结构,其中该 扩散点为一网点与一V型切痕合体。 23.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 第一发光体及该第二发光体分别为一LED发光体。 24.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 导光凹面系为一斜面。 25.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 导光凹面系为一曲面。 26.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 导光凹面系为一斜面与一曲面之合体。 27.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 导光凹面更包含一反射层,用以反射光线。 28.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 导光板更包含一折射区块,用以更改光线之传导方 向。 29.如申请专利范围第28项之面状光源结构,其中该 折射区块系为一孔穴。 30.如申请专利范围第28项之面状光源结构,其中该 孔穴更填有可折射光线之物质。 31.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 第一发光体与该第二发光体系为同型之发光体。 32.如申请专利范围第31项之面状光源结构,其中该 导光凹面相对于该第一发光体及该第二发光体系 为一对称性凹面,用以因应该第一发光体及该第二 发光体之入射光源,将其导向所需之路径。 33.如申请专利范围第17项之面状光源结构,其中该 第一发光体与该第二发光体系为不同型之发光体 。 34.如申请专利范围第33项之面状光源结构,其中该 导光凹面相对于该第一发光体及该第二发光体系 为一不对称性凹面,用以分别因应该第一发光体及 该第二发光体之入射光源,将其导向所需之路径。 图式简单说明: 第一图(a)-(b)系分别揭示一习知面状光源结构之立 体图与俯视图; 第二图系揭示另一习知面状光源结构之俯视图; 第三图(a)系揭示本案较佳实施态样之面状光源结 构之立体图; 第三图(b)-(d)系揭示本较较佳实施态样之面状光源 结构之俯视图; 第四图系揭示本案含折射区域之面状光源结构之 俯视图; 第五图系揭示本案含反射层之面状光源结构之俯 视图; 第六图(a)-(b)系分别揭示本案另一实施态样之面状 光源结构之立体图与俯视图;以及 第七图系揭示本案另一含反射层之面状光源结构 之俯视图。
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