| 主权项 |
1.一种金属用研磨液材料,其系含有选自有机酸、 硫酸、有机酸铵及硫酸铵中至少1种之氧化金属溶 解剂与,选自含氮化合物、含氮化合物之盐、含硫 化合物及水溶性聚合物中至少1种之保护膜形成剂 与,该保护膜形成剂之选自阴离子界面活性剂、阳 离子界面活性剂、两性界面活性剂、非离子界面 活性剂及有机溶媒中至少1种之溶解补助剂与,选 自过氧化氢、硝酸、过碘化钾、次氯酸及臭氧水 中至少1种之氧化剂。 2.如申请专利范围第1项之金属用研磨液材料,其中 ,氧化剂、氧化金属溶解剂、保护磨形成剂及溶解 补助剂所构成之成分群中可分为2种构成要素,且 各构成要素间为相互不混合之状态。 3.如申请专利范围第1或2项之金属用研磨液材料, 其中,溶解补助剂系为界面活性剂。 4.如申请专利范围第3项之金属用研磨液材料,其中 ,界面活性剂系为一个以上选自由酯、醚、多醣类 、胺基酸盐、聚羧酸、聚羧酸盐、乙烯聚合物、 磺酸、磺酸盐、及醯胺所构成群者。 5.如申请专利范围第1项之金属用研磨液材料,其中 ,溶解补助剂为保护膜形成剂之溶解度为25g/L以上 之溶剂。 6.如申请专利范围第5项之金属用研磨液材料,其中 ,溶媒为保护膜形成剂之良溶媒。 7.如申请专利范围第5项之金属用研磨液材料,其中 ,溶媒为一个以上选自由醇、醚及酮所构成群者。 8.如申请专利范围第5项之金属用研磨液材料,其中 ,溶媒之添加量以对金属用研磨液材料之总量100g 为50g以下。 9.如申请专利范围第1或2项之金属用研磨液材料, 其中,该保护膜形成剂中至少一部份为平均粒径100 m以下之固体。 10.如申请专利范围第1项之金属用研磨液材料,其 尚包含研磨粒。 11.一种金属用研磨液,其系含有选自过氧化氢、硝 酸、过碘化钾、次氯酸及臭氧水中至少1种之氧化 剂与,还自有机酸、硫酸、有机酸铵及硫酸铵中至 少1种之氧化金属溶解剂与,选自含氮化合物、含 氮化合物之盐、含硫化合物及水溶性聚合物中至 少1种之保护膜形成剂与,该保护膜形成剂之选自 阴离子界面活性剂、阳离子界面活性剂、两性界 面活性剂、非离子界面活性剂及有机溶媒中至少1 种之溶解补助剂与,水。 12.如申请专利范围第11项之金属用研磨液,其中,溶 解补助剂为界面活性剂。 13.如申请专利范围第11项之金属用研磨液,其中,溶 解补助剂为保护膜形成剂之溶解度为25g/L以上之 溶剂。 14.如申请专利范围第11项之金属用研磨液,其中,该 保护膜形成剂中至少一部份为平均粒径100m以下 之固体。 15.如申请专利范围第11项之金属用研磨液,其尚包 含研磨粒。 16.一种金属用研磨液之制造方法,其系包含将含有 至少一种选自氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜 形成剂及该保护膜形成剂之溶解补助剂所构成群 中的成分所得的金属用研磨液材料,以该成分群中 至少一成分之水溶液所得稀释用水溶液予以稀释 之稀释步骤。 17.一种金属用研磨液之制造方法,其系包含将含有 至少一种选自选自过氧化氢、硝酸、过碘化钾、 次氯酸及臭氧水中至少1种之氧化剂,选自有机酸 、硫酸、有机酸铵及硫酸铵中至少1种之氧化金属 溶解剂,选自含氮化合物、含氮化合物之盐、含硫 化合物及水溶性聚合物中至少1种之保护膜形成剂 及该保护膜形成剂之选自阴离子界面活性剂、阳 离子界面活性剂、两性界面活性剂、非离子界面 活性剂及有机溶媒中至少1种之溶解补助剂所构成 群中的成分所得之第1构成要素与, 含有该成分群之剩余成分中之至少一成分之第2构 成要素与, 稀释剂, 依所需要之顺序进行混合之混合步骤。 18.如申请专利范围第17项之金属用研磨液之制造 方法,其中,稀释剂为水或稀释用水溶液。 19.如申请专利范围第17项之金属用研磨液之制造 方法,其中,第1构成要素包含氧化剂,第2构成要素 包含氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、溶解补助 剂等。 20.如申请专利范围第17项之金属用研磨液之制造 方法,其中,第1构成要素尚包含保护膜形成剂与溶 解补助剂。 21.如申请专利范围第17项之金属用研磨液之制造 方法,其中,该混合步骤中,包含将含有氧化剂与含 有该氧化剂之混合物保持于40℃以下之步骤。 22.如申请专利范围第17项之金属用研磨液之制造 方法,其中,保护膜形成剂中至少一部份为平均粒 径100m以下之固体, 且经由上记混合步骤,可使其溶解或分散于金属用 研磨液中。 |
