蚀刻氮化矽薄膜的设备及方法

摘要

一种蚀刻氮化矽薄膜的设备及方法，此方法系首先提供一磷酸槽，并且在磷酸槽之侧边装设一音波产生器。接着，将一晶圆浸入磷酸槽中，其中晶圆上已形成有一氮化矽薄膜。之后，开启音波产生器，以使晶圆上之氮化矽薄膜被蚀刻或移除。由于本发明在磷酸槽之侧边装设有音波产生器，因此可以帮助磷酸槽中之浓磷酸与水之间混合的均匀度，进而促进蚀刻之均匀度。