| 主权项 |
1.一种彩色滤光基板的制造方法,包括:在一基板上形成一黑矩阵,以围出复数个次画素区;在该基板上之该些次画素区中形成一彩色光阻层,并覆盖住部分该黑矩阵;图案化该彩色光阻层,以在预定形成间隙物处之该彩色光阻层中形成一开口;以及在该开口内形成一间隙物。2.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光基板的制造方法,其中在该彩色光阻层中所形成之该开口系曝露出该黑矩阵。3.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光基板的制造方法,其中在形成该间隙物之前,更包括在该彩色光阻层以及该黑矩阵层上形成一电极层。4.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光基板的制造方法,其中在图案化该彩色光阻层之后,更包括:在该彩色光阻层上形成一覆盖层;以及图案化该覆盖层,以在预定形成间隙物处之该覆盖层中形成该开口。5.如申请专利范围第4项所述之彩色滤光基板的制造方法,其中于形成该覆盖层之后,更包括在该覆盖层上形成一电极层。6.一种彩色滤光基板,包括:一黑矩阵,形成在一基板上,其中该黑矩阵会围出复数个次画素区;一彩色光阻层,形成在该基板上之该些次画素区中,并覆盖住部分该黑矩阵,其中该彩色光阻层中具有复数个开口;以及复数个间隙物,各该些间隙物系配置在该彩色光阻层中之各该些开口内。7.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光基板,其中该彩色光阻层中之该些开口系曝露出该黑矩阵。8.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光基板,更包括一电极层,覆盖在该彩色光阻层以及该黑矩阵层上。9.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光基板,更包括一覆盖层,形成在该彩色光阻层上。10.如申请专利范围第9项所述之彩色滤光基板,更包括一电极层,形成在该覆盖层上。图式简单说明:第1A图至第1E图绘示为习知彩色滤光片之制造流程剖面示意图。第2图绘示为依照本发明一较佳实施例彩色滤光片之俯视图。第3A图至第3F图绘示为依照本发明一较佳实施例彩色滤光片之制程流程剖面示意图。第4图绘示为依照本发明另一较佳实施例彩色滤光片之剖面结构示意图。第5图绘示为依照本发明又一较佳实施例彩色滤光片之剖面结构示意图。第6图绘示为依照本发明再一较佳实施例彩色滤光片之剖面结构示意图。 |
