| 主权项 |
1.一种偏光片制造方法,系利用一转印模子加以形 成,该方法至少包含: 形成一偏光性材料于该转印模子图案面上; 将该转印模子图案面与一偏光基体表面接触,以将 该偏光性材料转移至该偏光基体表面上;以及 硬化该偏光性材料。 2.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中硬化该偏光性材料系使用紫外光成膜方式。 3.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中硬化该偏光性材料系使用加热成膜方式。 4.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中该偏光性材料为一具二色性偏光性材料。 5.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中该偏光性材料为一具双折射特性之材料。 6.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中该转印模子可于硬化该偏光性材料前进行脱膜 。 7.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中该转印模子可于硬化该偏光性材料后进行脱膜 。 8.一种偏光片制造方法,该方法至少包含: 形成一母模; 复制该母模上的图案于一转印模子; 形成一偏光性材料于该转印模子图案面上; 将该转印模子图案面与一偏光基体表面接触,以将 该偏光性材料转移至该偏光基体表面上;以及 执行一硬化程序,以硬化该偏光基体表面上之该偏 光性材料。 9.如申请专利范围第8项所述之偏光片制造方法,其 中形成母模之方式系使用电子束在一玻璃基板上 刻画出所需之图案。 10.如申请专利范围第8项所述之偏光片制造方法, 其中硬化该偏光性材料系使用紫外光成膜方式。 11.如申请专利范围第8项所述之偏光片制造方法, 其中硬化该偏光性材料系使用加热成膜方式。 12.如申请专利范围第8项所述之偏光片制造方法, 其中该偏光性材料为一具二色性偏光性材料。 13.如申请专利范围第8项所述之偏光片制造方法, 其中该偏光性材料为一具双折射特性之材料。 14.如申请专利范围第8项所述之偏光片制造方法, 其中该转印模子可于硬化该偏光性材料前进行脱 膜。 15.如申请专利范围第8项所述之偏光片制造方法, 其中该转印模子可于硬化该偏光性材料后进行脱 膜。 16.一种偏光片制造方法,该方法至少包含: 形成一母模; 复制该母模上的图案于一转印模子; 形成一偏光性材料于该转印模子图案面上; 将该转印模子图案面与一偏光基体表面接触,以将 该偏光性材料转移至该偏光基体表面上; 硬化该偏光基体表面上之该偏光性材料; 形成一表面保护层于该偏光基体表面上;以及 执行一硬化程序。 17.如申请专利范围第16项所述之偏光片制造方法, 其中形成母模之方式系使用电子束在一玻璃基板 上刻画出所需之图案。 18.如申请专利范围第16项所述之偏光片制造方法, 其中硬化该偏光性材料系使用紫外光成膜方式。 19.如申请专利范围第16项所述之偏光片制造方法, 其中硬化该偏光性材料系使用加热成膜方式。 20.如申请专利范围第16项所述之偏光片制造方法, 其中该偏光性材料为一具二色性偏光性材料。 21.如申请专利范围第16项所述之偏光片制造方法, 其中该偏光性材料为一具双折射特性之材料。 22.如申请专利范围第16项所述之偏光片制造方法, 其中该转印模子可于硬化该偏光性材料前进行脱 膜。 23.如申请专利范围第16项所述之偏光片制造方法, 其中该转印模子可于硬化该偏光性材料后进行脱 膜。 图式简单说明: 第一A图所示为一未加电压之TN型液晶显示器之概 略图; 第一B图中所示为施加一外加电压时其TN型液晶显 示器之概略图; 第二图所示为一偏光板之概略图; 第三A图至第三C图,其绘示根据本发明之方法形成 转印模子之流程图; 第四图所示为根据本发明将二色性材料形成在转 印模子上之概略图; 第五图所示为将二色性材料转印至偏光片基板上 之概略图;以及 第六图所示为偏光片基板上形成有二色性材料之 概略图。 第七图所示为本发明偏光片之概略图。 |
