发明名称 | 等离子体处理装置及等离子体处理方法 | ||
摘要 | 一种等离子体处理装置和使用该装置的等离子体处理方法,在气体供给过程中,在开闭气体供给路径的气体开关阀打开之前,由主控制部将流量设定指令信号设定为零流量,并向质量流量控制器输出,在气体开关阀为打开状态后,把流量设定指令信号设定为规定流量并输出,从而,能够解决在气体流入的初始状态,等离子体产生用气体一时供给过剩的问题。 | ||
申请公布号 | CN1175477C | 申请公布日期 | 2004.11.10 |
申请号 | CN02105984.5 | 申请日期 | 2002.04.11 |
申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 岩井哲博;古川良太 |
分类号 | H01L21/3065 | 主分类号 | H01L21/3065 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
主权项 | 1.一种等离子体处理装置,用于对处理对象物进行等离子体处理,所述等离子体处理装置包括:处理室;连接到所述处理室的处理室抽真空装置;通过气体供给路径向所述处理室内供给处理气体的气体导入装置;所述气体导入装置包括:开闭气体供给路径的气体开关阀;在所述气体供给路径中检测处理气体的流量的流量检测部;连接到气体供给路径中,并具有可调节孔口的流量控制阀;产生流量设定指令信号,并控制所述气体开关阀开闭的主控制部;在所述处理室内产生等离子体的等离子体发生装置;以及反馈控制部,所述反馈控制部连接到所述流量控制阀和所述流量检测部,以根据所述流量设定指令信号和根据所述流量检测部监测的流量控制所述流量控制阀的所述可调节孔口的开度,其中所述主控制部在所述气体开关阀自闭合位置打开时保持所述流体控制阀闭合。 | ||
地址 | 日本国大阪府 |