| 发明名称 |
Method of exposing a target to a charged particle beam |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US2004217304(A1) |
申请公布日期 |
2004.11.04 |
| 申请号 |
US20040861876 |
申请日期 |
2004.06.03 |
| 申请人 |
VENEKLASEN LEE H;DEVORE WILLIAM J |
发明人 |
VENEKLASEN LEE H;DEVORE WILLIAM J |
| 分类号 |
G03F7/20;G01Q30/18;H01J37/141;H01J37/305;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/30;H01J37/153 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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